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高频等离子体粉体设备

高频等离子体粉体设备

2020-11-23T07:11:19+00:00

  • 制备特种粉体的有效手段:高频感应热等离子体要闻资讯

    2021年6月4日  高频热等离子体制备纳米粉体的实验过程分为3个步骤:步,产生稳定的等离子体弧;第二步,加料;第三步,收集产品。 高频热等离子体弧不仅能够提供很高 3 天之前  高频热等离子体制备特种粉体研究进展 袁方利*, 金化成, 侯果林, 白柳杨, 丁 飞, 李保强, 陈运法 Progress on preparation of special powders using HF thermal 高频热等离子体制备特种粉体研究进展

  • TP 系列 高频感应等离子体发生器 JEOL 捷欧路(北京

    原理特征 在大气压或者接近大气压的低气压环境下,将高频电源集中于局部,通过电磁感应使各种气体在瞬间变成1万度左右的超高温等离子体。 热等离子体属于电弧放电,往等离 热等离子体技术制备纳米粉体材料设备研制获得863计划的支持,研发了高频热等离子体制备粉体装置,纳米球形氧化铝、氧化硅和球形难熔金属粉及纳米金属粉体等实现了宏量制 研究员中国科学院过程工程研究所 CAS

  • 中国科学院机构知识库网格系统: 高频热等离子体制备特种粉体

    高频感应热等离子体具有能量密度大、温度高和冷却速率快等特点,是制备特种粉体的重要手段之一本工作介绍了过程所在高频热等离子体制备特种粉体方面的研究进展利用热等离 2018年7月10日  高频热等离子体制备特种粉体研究进展 袁方利*, 金化成, 侯果林, 白柳杨, 丁 飞, 李保强, 陈运法 中国科学院过程工程研究所材料与环境工程研究部,多相 Progress on preparation of special powders using HF thermal

  • 等离子体技术制备纳米粉体研究现状

    2022年10月24日  由 于具有高温、高焓、高的化学反应活性、反应 气氛可控等特点,等离子体作为热源是合成超 细纳米粉体的一种实用可行的技术方法,其典 型原理如图1 所示。 2011年6月29日  本发明涉及一种利用高频等离子体为热源制取纳米粉体的生产设备,该设备包括用于产生高频等离子体的高频等离子体发生装置Ⅱ,用于向等离子体发生装置Ⅱ输送粉 高频等离子体多功能粉体生产设备 百度学术

  • 粉体生产线高频感应等离子法纳米粉体制取设备产品详情

    5 天之前  高频感应等离子体由于没有电极,具有温度高、无污染等优点,可生产高熔点、高纯度粉体。 我公司可为用户专业设计、制造基于高频感应等离子技术的生产设备和实验 2017年9月18日  组成部分: 1、射频等离子体炬: 整套设备的核心关键技术,具有自主知识产权的技术。 采用陶瓷约束管,发散型喷嘴,可在惰性气体、还原、氧化气氛下工作。 2、高频等离子体电源: 功率100KW, 射频等离子体球化制粉设备

  • 等离子喷涂系统等离子喷涂系统佛山先进机械设备有限公司

    PlazJet设备最早引入的时间是1992年,是独特的“高能”等离子喷涂设备。该设备实际上是用于在高生产率的情况下进行低孔隙率的陶瓷和其他材料的喷涂作业。该设备由TAFA7700型控制系统操控,在“高能”等离子工艺领域里,7700PlazJet属于终极设备。2022年1月12日  12甚高频等离子体化学气相淀积(VHFPECVD) 采用RFPECVD技术制备薄膜时,为了实现低温淀积,必须使用稀释的硅烷作为反应气体,因此淀积速度有限。 VHFPECVD技术由于VHF激发的等离子体 十读懂PECVD 知乎

  • 一篇全面解读:PECVD工艺的种类、设备结构及其工艺原理

    2023年5月12日  2PECVD设备的基本结构 21PECVD工艺的基本原理 PECVD技术是在低气压下,利用低温等离子体在工艺腔体的阴极上(即样品放置的托盘)产生辉光放电,利用辉光放电(或另加发热体)使样品升温到预定的温度,然后通入适量的工艺气体 射频等离子体球化制备粉末材料生产线 设备用途及原理 射频等离子体,具有能量密度高、加热强度大、等离子体弧的体积大,由于没有电极,不会因电极蒸发而污染产品。 射频等离子体粉末球化技术原理,是在高频电源作用下,惰性气体(如氩气)被电离 等离子体球化制备粉末材料生产线

  • 等离子体发生器百度百科

    等离子体发生器的放电原理:利用外加电场或高频感应电场使气体导电,称为气体放电。气体放电是产生等离子体的重要手段之一。被外加电场加速的部分电离气体中的电子与中性分子碰撞,把从电场得到的能量传给气体。2022年10月24日  图2 等离子体法制备的典型纳米粉体形貌图:(a) 铜粉;(b) 氧化铝粉[16] Fig2 Morphology of typical nanopowders prepared by plasma method: (a) copper powder; (b) Al 2 O 3 powder[16] 13 高频感应等离子体 感应等离子焰是由电感线圈产生的电磁场 将气 等离子体技术制备纳米粉体研究现状

  • 一篇文章读懂等离子体刻蚀 知乎

    2020年12月10日  2 2刻蚀机制 刻蚀机理的解释适用于所有类型的等离子体技术,不局限于RIE。 通常,等离子体刻蚀是化学刻蚀,不是物理刻蚀,这意味着固体原子与气体原子反应形成化学分子,然后从基片表面移除形成刻蚀。 因为VDC的存在,通常存在一定的基片溅 2018年5月23日  电弧等离子体、高频 等离子体以及感应等离子体都属于热等离子体。采用高频等离子体熔融法制备球形石英粉,温度范围适中、控制平稳、产量高,可达到较高球化率,因而是一种较合适的生产方法。其原理与工艺与火焰熔融法类似,主要是将 干货 | 球形石英粉制备技术及行业生产现状!

  • 研究员中国科学院过程工程研究所 CAS

    主要开展特种粉体材料制备与应用研究,重点围绕热等离子体制备特种功能粉体进行设备研制、粉体材料研发和应用研究。 热等离子体技术制备纳米粉体材料设备研制获得863计划的支持,研发了高频热等离子体制备粉体装置,纳米球形氧化铝、氧化硅和球形难熔金属粉及纳米金属粉体等实现了宏量 等离子喷涂是一种材料表面强化和表面改性的技术,可以使基体表面具有耐磨、耐蚀、耐高温氧化、电绝缘、隔热、防辐射、减磨和密封等性能。 等离子喷涂技术是采用由直流电驱动的等离子电弧作为热源,将陶瓷、合金 等离子喷涂百度百科

  • 制备特种粉体的有效手段:高频感应热等离子体要闻资讯

    2021年6月4日  主要开展特种粉体材料制备与应用研究,重点围绕热等离子体制备特种功能粉体进行设备研制、粉体材料研发和应用研究。 热等离子体技术制备纳米粉体材料设备研制获得863计划的支持,研发了高频热等离子体制备粉体装置,纳米球形氧化铝、氧化硅和球形难熔金属粉及纳米金属粉体等实现了宏量 2021年1月27日  等离子体射流区域的扩展使射流横截面上的颗粒浓度和温度分布更加均匀,显著提高了涂层沉积的面积和均匀性。 2、PSPVD 工艺影响及优化 一般来说,喷涂过程中的工艺参数直接影响喷涂粉末的温度、速度、熔化和气化比例等,进而影响涂层组织结构。PSPVD等离子物理气相沉积热障涂层研究进展 知乎

  • 等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术基础 知乎

    2019年12月13日  1、等离子体增强化学气相沉积的主要过程 等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术是借助于辉光放电等离子体使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应,从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术。 由于PECVD技术是通过应气体放电来制备薄膜的,有效地利用了非平衡等离子体的反应特征,从根本上 2019年9月9日  1高频高压等离子体发生方法 当在感应线圈上施加高频电场后,部分空气电离产生的带电粒子做高速运动,二次碰撞气体原子,形成雪崩电离,并在垂直于磁场方向的截面上形成闭合 环形 涡流。 根据等离子体涡流效应: E=nФωsin((1)t)(1) 其中E为感 高频高压等离子体发生过程与系统设计电子发烧友网

  • 等离子体发生器分类介绍【东信高科】

    高频感应等离子体发生器 又称高频等离子体炬,或称射频等离子体炬。它利用无电极的感应耦合,把高频电源的能量输入到连续的气流中进行高频放电。高频等离子体发生器及其应用工艺有以下新特点: ①只有线圈,没有电极,故无电极损耗问题。2023年10月13日  3MPCVD装置结构的多样性 微波等离子体气相沉积(MPCVD)的优点是表现其在等离子体的能量是由微波能量来维持的,因而在放电过程中不使用金属电极,可避免其他CVD沉积方法中因使用金属电极而造成的污染,另外MPCVD法的气体放电区非常集中,不仅能产生高密度 不同结构的CVD化学气相沉积装置概述 知乎

  • 高频 应等离子 动力学及其应

    2008年6月13日  高频感应等离子体动力学及其应用 中国科学院力学研究所 朱清文 引 言 高频感应等离子体技术是近十多年发展起来的一门新技术, 由于它具有无电极污染, 弧 区大,温度均匀, 能提供纯净热源, 工质不受限制等特点 在化工、 冶金等工业和各个科学 技术领域中有着潜在的应用前景 因为过去对能够稳定 2021年5月27日  电感耦合等离子体(ICP)是由高频电流经感应线圈产生高频电磁场,使工作气体形成等离子体,并呈现火焰状放电,是一个目前用于原子发射光谱,具有良好的蒸发原子化激发电离性能的光谱光源。 1ICP原理电感耦合等电感耦合等离子体(ICP) 知乎

  • 等离子球磨机 知乎

    2022年10月12日  等离子球磨制备SiC复合材料获得石墨烯片层包覆硅颗粒结构 通过等离子体球磨技术制备纳米硅颗粒均匀嵌入石墨烯纳米片(GNs)中的复合材料,大大提高硅(Si)的锂存储性能。 等离子体的快速加热和震动球磨的协同作用将石墨粉转化为GN,同时将纳米Si颗粒整合到原位形成的GN中。2021年4月1日  最常见的化学气相沉积反应有: 热分解反应 、化学合成反应和化学传输反应等。 3化学气相沉积法之所以得到发展,是和它本身的特点分不开的,其特点如下: (1)沉积物种类多: 可以沉积金属薄膜、非金 化学气相沉积系统的种类、特点及应用 知乎

  • 科普百篇系列(156) 等离子体彩色显示屏的构造原理

    2022年9月15日  3等离子体显示屏的缺点有哪些? 与液晶显示屏比较:1)等离子体显示屏功耗大,不便于电池电源;2)会产生一定的电磁干扰;3)价格偏高。 赞同 6 科普百篇系列(156) 等离子体彩色显示屏的 2023年2月27日  PLASMA真空等离子处理仪配备清洗托盘,把样品放在托盘上,样品朝上的一面等离子处理效果明显,样品贴着托盘的一面处理效果不明显,原因是等离子体需要空间让其做高速运动,而样品贴着托盘的那 一文读懂PLASMA真空等离子处理仪工作原理 知乎

  • 等离子制粉系统 北京云尚智造科技有限公司

    4 天之前  高密度 化学成分控制 粉末回收 翻新废弃的粉末 改善形态 改善流动性 提纯和减少氧含量 请致电 400 900 5667 等离子制粉法是一种在金属粒子飞行过程中对其进行熔化和重塑的工艺,基于等离子射流的高热能输入及稳流雾化特征,可以有效控制粉末的空心粉 2020年5月27日  此法与等离子体高温火焰相比,首先温度场相对较低,其次是影响因素较少,设备制造更为简化,容易实现工业化,发展前景较好。 4、化学合成法 化学合成法和其它的制备方法有明显的差别,主要是采用溶胶—凝胶技术,在分散剂和球形催化剂存在的条件下制备出球形石英粉。被日本垄断的这种高端工业粉体材料,竟然有12种制备方法!

  • 【粉课堂】硅微粉制备的方法现状及优缺点对比

    2017年3月13日  目前,球形硅微粉的制备方法主要包括物理法和化学法,物理法包括火焰成球法、高温熔融喷射法、等离子体法; 化学法主要是气相法、液相法 ( 溶胶- 凝胶法、沉淀法、微乳液法) 等。 1 1 物理法 1 1 1 火焰成球法 火焰成球法首先对 进行粉碎、筛分、提纯 2018年8月6日  图3 PBMS型等离子球磨机及应用领域 将高能球磨与介质阻挡等离子体相结合,在粉体处理过程中,高能球磨将粉体破碎裸漏新的表面,增加等离子与材料表面的接触面积,相对于静态等离子处理,相对作用深度增加,破碎与表面处理同步进行,在金属高效合金化,二维材料制备,石墨烯包覆各种材料 等离子设备是如何工作的? 知乎

  • 等离子固相外沉积大尺寸石英套管研究 百度学术

    摘要: 本文对以高频等离子体为热源,以天然高纯石英粉料为原料,用固相外沉积方法制备光纤预制棒用大尺寸石英套管的沉积技术进行研究,并在研究的基础上改进实验装置熔制过程为:在高频电磁场作用下,用氩气引弧后引燃压缩空气,形成等离子火焰,合适微量元素含量和粒度分布的石英粉料通过供料 2022年2月22日  高压放电与等离子体实验室 1 实验室介绍 大气压非平衡放电等离子体由于其在材料表面改性、环境、污水处理、生物医学等方面的潜在应用受到了人们的极大关注。 其中大气压非平衡等离子体在生物医学方面的应用,即“等离子体医学”是近年来兴起的一个 高压放电与等离子体实验室山东大学电气工程学院

  • 技术 一文了解球形硅微粉11种制备方法!熔融

    2019年1月11日  等离子体技术的基本原理是利用等离子矩的高温区将二氧化硅粉体熔化,由于液体表面张力的作用形成球形液滴.在快速冷却过程中形成球形化颗粒。 采用高频等离子体熔融法制备球形硅微粉,温度范围适中、控制平等离子体设备包括 PECVD、干法刻蚀、干法去胶等,在晶圆制造前道环节占 据主导地位和主要价值量。 后者可分为低频交流电源和高频交流电源。射频电源属于高频交流 电源,工作频率在 300KHz300GHz 之间,由放大 半导体零部件行业深度报告:国产替代核心部件,百舸

  • 等离子技术尽皆可能 知乎

    2020年9月25日  等离子设备技术分为低压等离子技术和常压等离子技术。 (一)低压等离子技术 对于低压等离子技术,气体在真空中通过获取能量从而被激发。 等离子由高能粒子、高能电子以及其它反应粒子组成。 由 2012年12月8日  纳米陶瓷粉体制备技术纳米陶瓷粉体制备技术的核心课题是要研究出一种“尺寸可控、表面清洁、不易团聚而又易大量合成纳米陶瓷粉体的方法”,以实现纳米陶瓷粉体的工业化生产。 目前发展的制备方法,大致按原料起始状态可分为固相法、气相法和液相法 (即 纳米陶瓷粉体的制备技术及产业化 豆丁网

  • 等离子体抛光完整资料PPT百度文库

    1传统的等离子体抛光 传统的真空等离子体表面加工技术通常使用六 氟化硫、四氟化碳等具有腐蚀作用的气体,利用高频 电场激发产生等离子体,等离子体中的活性自由基能 够与被加工材料表面原子产生化学反应,生成强挥发 性气体,在此过程中产生抛光效果。2012年5月10日  本课题组主要围绕国家重大战略对功能粉体材料的需求,以颗粒生长过程调控为基础,开展等离子体调控纳微结构材料研究,并进行等离子体反应器等关键设备单元研制,将等离子体科学与材料科学紧密结合,集成与优化形成等离子体工程应用技术。 发表论 功能粉体材料课题组

  • 热等离子体技术 现状及发展方向 3 CAS

    2006年3月8日  热等离子体技术已从60 年代最初的与空间有关的研究逐渐转到80 年代和90 年代越来越 着重以材料为中心 空间科技的需要给热等离子体的基础研究与开发提供了强大的动力 例 如, 开发了功率水平从1kW 到10MW 以上的等离子体炬 对等离子体/ 粒子 等离子加热的特点:①温度高;② 功率密度 大,热量集中;③等离子体一般呈中性,可避免物料的氧化和还原,还可在真空或控制气氛中加热;④等离子体可有极高的流速,有利于某些作业如切削、喷涂等的进行;⑤与电子束加热和激光加热相比, 设备和生产 等离子加热百度百科

  • 三读懂PECVD等离子

    2019年7月1日  12甚高频等离子体化学气相淀积(VHFPECVD) 采用RFPECVD技术制备薄膜时,为了实现低温淀积,必须使用稀释的硅烷作为反应气体,因此淀积速度有限。 VHFPECVD技术由于VHF激发的等离子体比常规的射频产生的等离子体电子温度更低、密度更大[2],因而能够大幅度提高薄膜的淀积速率,在实际应用中 2021年7月20日  本篇文章作为系列开篇,将聚焦高频手术设备定义、NMPA管理分类,目前已有注册证情况以及招投标汇总解读。 1 高频电外科设备定义 电外科设备(Electrosurgery Unit, ESU )已成为手术室中不可或缺的设备。 狭义ESU是指直接利用高频高压电流通过组 高频电外科设备1——3搞懂高频手术设备,从定义分类

  • 射频等离子体和热处理制备球形WC–Co粉末 USTB

    2021年4月6日  摘要: 以喷雾造粒WC–30Co粉末为原料,采用射频等离子体和后续热处理制备3D打印用球形WC–Co粉末,研究射频等离子体球化和热处理对粉末特性的影响。 结果表明,射频等离子体球化效果显著,喷雾造粒粉末的球化率可达100%。 球化后的粉末表面光滑 2017年9月18日  组成部分: 1、射频等离子体炬: 整套设备的核心关键技术,具有自主知识产权的技术。 采用陶瓷约束管,发散型喷嘴,可在惰性气体、还原、氧化气氛下工作。 2、高频等离子体电源: 功率100KW, 射频等离子体球化制粉设备

  • 等离子喷涂系统等离子喷涂系统佛山先进机械设备有限公司

    PlazJet设备最早引入的时间是1992年,是独特的“高能”等离子喷涂设备。该设备实际上是用于在高生产率的情况下进行低孔隙率的陶瓷和其他材料的喷涂作业。该设备由TAFA7700型控制系统操控,在“高能”等离子工艺领域里,7700PlazJet属于终极设备。2022年1月12日  12甚高频等离子体化学气相淀积(VHFPECVD) 采用RFPECVD技术制备薄膜时,为了实现低温淀积,必须使用稀释的硅烷作为反应气体,因此淀积速度有限。 VHFPECVD技术由于VHF激发的等离子体 十读懂PECVD 知乎

  • 一篇全面解读:PECVD工艺的种类、设备结构及其工艺原理

    2023年5月12日  2PECVD设备的基本结构 21PECVD工艺的基本原理 PECVD技术是在低气压下,利用低温等离子体在工艺腔体的阴极上(即样品放置的托盘)产生辉光放电,利用辉光放电(或另加发热体)使样品升温到预定的温度,然后通入适量的工艺气体 射频等离子体球化制备粉末材料生产线 设备用途及原理 射频等离子体,具有能量密度高、加热强度大、等离子体弧的体积大,由于没有电极,不会因电极蒸发而污染产品。 射频等离子体粉末球化技术原理,是在高频电源作用下,惰性气体(如氩气)被电离 等离子体球化制备粉末材料生产线

  • 等离子体发生器百度百科

    等离子体发生器的放电原理:利用外加电场或高频感应电场使气体导电,称为气体放电。气体放电是产生等离子体的重要手段之一。被外加电场加速的部分电离气体中的电子与中性分子碰撞,把从电场得到的能量传给气体。2022年10月24日  图2 等离子体法制备的典型纳米粉体形貌图:(a) 铜粉;(b) 氧化铝粉[16] Fig2 Morphology of typical nanopowders prepared by plasma method: (a) copper powder; (b) Al 2 O 3 powder[16] 13 高频感应等离子体 感应等离子焰是由电感线圈产生的电磁场 将气 等离子体技术制备纳米粉体研究现状

  • 一篇文章读懂等离子体刻蚀 知乎

    2020年12月10日  2 2刻蚀机制 刻蚀机理的解释适用于所有类型的等离子体技术,不局限于RIE。 通常,等离子体刻蚀是化学刻蚀,不是物理刻蚀,这意味着固体原子与气体原子反应形成化学分子,然后从基片表面移除形成刻蚀。 因为VDC的存在,通常存在一定的基片溅 2018年5月23日  电弧等离子体、高频 等离子体以及感应等离子体都属于热等离子体。采用高频等离子体熔融法制备球形石英粉,温度范围适中、控制平稳、产量高,可达到较高球化率,因而是一种较合适的生产方法。其原理与工艺与火焰熔融法类似,主要是将 干货 | 球形石英粉制备技术及行业生产现状!

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