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2氧化硅生产技术设备
2氧化硅生产技术设备
2020-09-20T21:09:04+00:00
2芯片制造的氧化工艺及设备 知乎
2023年10月16日 21，氧化工艺的简介 在集成电路制造工艺中，氧化硅薄膜形成的方法有热氧化和沉积两种，氧化工艺是指用热氧化方法在硅表面形成SiO2的过程。 氧化工艺分干 2022年1月3日 国内气相二氧化硅生产装置厂家超过25家，其中蓝星化工、瓦克化学、德山化工和协鑫高科产能均在1万吨以上，位于行业梯队，吉必盛、合盛硅业、卡博特恒 【行业深度】洞察2022：中国二氧化硅行业竞争格局及市场
半导体工艺(二)保护晶圆表面的氧化工艺 三星半导体官网
2022年2月14日 晶圆的保护膜和绝缘膜是“氧化膜”(二氧化硅,SiO2) 为了将从沙子中提取的硅作为半导体集成电路的原材 料,需要对其进行一系列的提纯,才可制造出称为锭(Ingot)的硅 2017年5月30日 南昌高新技术产业开发区传出消息，该区南昌至新化工技术有限公司生产出超纯二氧化硅（SiO2）产品，二氧化硅含量达999995%，杂质含量只有5ppm，优于国 自主超纯二氧化硅（SiO2）工艺研发成功 创新 中国产业
【会议通知】2021年全国二氧化硅材料技术创新与高端应用
2021年7月9日 工业上广泛应用的二 氧化硅 材料，其原料由于制备工艺或来源不同，有 石英 粉、 硅微粉 、白炭黑、微硅粉 等称呼。 一般来说，行业上认为石英粉是以石英原矿通 2022年12月28日 10玻璃钢制品：将纳米SiO2添加到胶衣树脂中，与未加纳米SiO2的胶衣做性能对比实验，发现其莫氏硬度由原来的22级提高到28~29级，耐磨性提高1~2倍，抗拉强度和抗冲击强度提高1倍以上，耐 纳米二氧化硅生产工艺及设计 知乎
【小知识】芯片制造05之氧化 知乎
2020年4月17日 有两种常规的技术：管式反应炉和快速氧化系统。 如想一起学习，可关注微信公众号： 芯友道 发布于 02:01 半导体 芯片（集成电路） 半导体产业 2021年12月16日 黎明的未来 二氧化硅是重要的化工原料;其硬度较高，磨成粉末后可用于冶金行业、其他化工行业和建材行业。 二氧化硅研磨用什么设备? 硅粉成品 研磨后的 二氧化硅研磨用什么设备?硅石粉磨生产线工艺流程 知乎
氧化硅片(silicon oxide wafer) 先进电子材料与器件校级平台
5 天之前 平台介绍 平台简介 平台之路 组织机构 人员介绍 平台领导 教师名录 历任领导 退休教职工名录 平台月报 员工天地 联系我们 人才招聘 新闻公告 新闻列表 通知公告 学术会 2020年6月16日 半导体制造之设备篇 半导体需要的设备比较繁杂，在晶圆制造中，由于光刻、刻蚀、沉积等流程在芯片生产过程中需要20到50次的反复制作，是芯片前端加工过程的三大核心技术，其设备价值也最高，但 半导体制造之设备篇：国产、进口设备大对比 知乎
技术 高分子环保脱硫剂脱硫机理及工业化应用排放
2021年1月5日 如何实现高效快速吸附二、三两级预热器中SO2并加速氧化成SO3，同时促进生料对SO3 的吸附，最终降低SO2 排放是脱硫技术的关键。 本文介绍了一种新型高分子环保脱硫剂的工作机理和工业化应用，通过脱硫 剂含有的氧化成分促进SO2 向SO3 转化，同时凭借其特有的高分子组分官能团强力吸附SO2 并最终 2020年5月11日 3、一氧化二氮（N2O ）：介质膜工艺气体，目前国内产能即将增长 一氧化二氮是一种无色有甜味气体，在一定条件下能支持燃烧，但在室温下稳定，有轻微麻醉作用，并能致使人发笑，俗称笑气。一氧化 电子特气行业深度报告：电子特气国产化迎历史性机遇
白炭黑（二氧化硅）国内为生产厂家简介产品网址公司
2022年12月22日 公司拥有亲水性气相二氧化硅和疏水性气相二氧化硅两大系列产品，也可批量生产气相二氧化钛及气相三氧化二铝。 改性气相法纳米二氧化硅 公司设立了中国氟硅行业气相二氧化硅创新孵化基地和省级企业技术中心，和全世界较大的高分子学院—四川大学高分子学院共同成立了功能纳米粉体材料 2022年1月3日 由于纯碱、石英砂等沉淀二氧化硅原材料集中在华东地区，且该地区为轮胎、鞋业、硅橡胶企业的生产聚集地，故我国沉淀二氧化硅生产厂家主要分布在福建、山东、江苏等地区，产能占全国80%以上。气相二氧化硅企业主要分布在华东、中南和华北地区。【行业深度】洞察2022：中国二氧化硅行业竞争格局及市场
常见的半导体工艺设备 知乎
2022年8月19日 氧化炉 4磁控溅射台 磁控溅射是物理气相沉积的一种，一般的溅射法可被用于制备半导体等材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。 在硅晶圆生产过程中，通过二极溅射中一个平行于靶表面的封闭磁场，和靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域 2023年4月18日 为实现 上述生产工艺所能达到的各项指标要求，还需要专业的特种非标核心生产设备，公司在生 产过程中的主要设备及技术均为自主研发。 尤其是用于轮胎、牙膏、涂料等的高档二氧化 硅产品，需要长期的理论和实践经验积累才能实现稳定生产，对企业的研发能力和人才储 备有较高要求。确成股份研究报告：高分散白炭黑龙头企业，打开长期成长空间
多晶硅百度百科
2011年6月3日 多晶硅，是单质硅的一种形态。 熔融的单质硅在过冷条件下凝固时，硅原子以 多晶硅（polycrystalline silicon）有灰色金属光泽，密度232~234g/cm。 熔点1410℃。 沸点2355℃。 溶于的混酸中，不溶于水、硝酸和盐酸。 硬度介于之间，室温下质脆，切割 2020年3月10日 也是种用于大量生产氮化硅粉末的方法。 但如果使用的硅原料纯度低会使得生产出的氮化硅含有杂质硅酸盐和铁。 用二胺分解法合成的氮化硅是无定形态的，需要进一步在14001500°C的氮气下做退火处理才能将之转化为晶态粉末，目前二胺分解法在重要性方面是仅次于渗氮法的商品化生产氮化硅 氮化硅合成方法及加工 知乎
工业硅冶炼原材料及成本构成剖析 知乎
2022年5月31日 从成本构成看，每生产1吨工业硅大约需要消耗273吨硅石，2吨炭质还原剂，01013吨电极。 同时，冶炼过程还需要消耗大约1100013000度电能。 除上述原材料及耗电成本外，还包括一些其他费用，比如维护费用、折旧、人工成本等。 成本构成中，硅 工业硅工艺流程 2）生产方法 高纯工业硅系连续作业过程，无论是国内还是国外都用碳热法，即以硅石和碳质还原剂为原料，在埋弧电炉中由电热法冶炼生产的。 工业硅冶炼化学反应比较复杂，但最基本的反应是： SiO2+2C—→Si+2CO 生产方法的区别主要在碳质 工业硅工艺流程 百度文库
纳米二氧化硅生产工艺及设计 知乎
2022年12月28日 询技术，找项目，就上中天化工技术网 山东中天科技工程有限公司有着丰富的纳米二氧化硅项目的设计经验，曾为多家知名生产企业进行工艺设计，工艺先进，设计合理，可以进行工程定制设计，实现前 2020年4月17日 硅的热氧化过程分为两个阶段，从线性增长到抛物线增长。线性增长阶段时氧原子可以直接和硅接触，保证线性增长厚度值001μm；当二氧化硅附着要硅表面之后，剩下部分的氧化就需要通过扩散作用来保证硅原子和氧原子的接触来形成二氧化碳，此时就进入了抛物线式的增长。【小知识】芯片制造05之氧化 知乎
催化反应工程团队在高效催化剂制备领域取得系列进展 upc
2021年6月11日 近日，我校重质油国家重点实验室催化反应工程团队在高效催化剂制备研究方面取得系列进展，相关研究成果分别发表在Angewandte Chemie International Edition，ACS Catalysis，Applied Catalysis B: Environmental，Science Bulletin，ACS Applied Materials Interfaces，Green Energy Environment等化学 2023年5月18日 随着我国生自主创新研发的技术水平不断进步，未来实现中国作为自己进行生产的晶圆也将会问世。 制作自己一颗硅晶圆需要的半导体技术设备进行大致有十个，它们分别是通过单晶炉、气相外延炉、氧化炉、磁控溅射台、化学工程机械使用抛光机、光刻机 制造半导体中的硅晶圆需要哪些设备 知乎
半导体制造流程（二）氧化物生长和去除半导体制备的流程
2023年6月13日 31、氧化物生长和沉淀硅在氧化气氛中加热可以加速获得氧化物，如果使用干燥的纯氧，得到的氧化物薄膜就称为干氧化物，薄膜越厚，氧化速率越慢。 可以通过加压提高生长速率。 湿氧化物的形成方式与干氧化物相似，除了氧气外还需要在氧化炉中加入 2022年8月15日 影响SiO2气凝胶吸附CO2性能的主要因素有两个方面:一是气凝胶本身的结构特点,包括孔径、孔结构、比表面积及孔隙率等;二是气凝胶表面的官能团,包括碱性基团的数量及分布等,后者起着决定性作用。 大量研究围绕气凝胶的修饰改性展开,目前主要采取氨基功 二氧化硅气凝胶的制备、氨基改性及低温吸附CO 2 性能研究进展
硅片上生长热氧化硅工艺 知乎
2023年7月18日 热氧化硅，即在高温中生长的氧化硅。 硅片在约 1000 °C 的熔炉中进行氧化，硅上生成的氧化层称为热氧化硅（thermal oxide）。 熔炉由石英管组成，其中晶圆放置在由石英玻璃制成的载体上。 为了加热，有多个加热区，为了化学供给，有多个管道。 石英 气相二氧化硅的制备方法 CH3S iC l3+2 H2+302燃烧S i02+3 HCI+CO2+2 H2 O 气相二氧化硅新工艺的出现，改变了气相二氧化硅工业的发展模式，使得气相二氧化硅工业 和有机硅单体工业之间的关系更加密切，它解决了有机硅单体工业副产物的处理问题，在气 相二 气相二氧化硅的制备方法百度文库
涨知识了！半导体生产过程有这么多设备 知乎
2023年3月17日 半导体生产过程有这么多设备 半导体工业已经超过传统的钢铁工业、汽车工业，成为21世纪的高附加值、高科技产业。 半导体是许多工业整机设备的核心，普遍应用于计算机、消费类电子、网络通信、汽车电子等核心领域。 半导体主要有四个组成部分：集 2020年5月3日 关注半导体设备：扩散设备看北方华创，万业企业成离子注入独苗,束流,离子,注入机,半导体,氧化 硅因具有金属和非金属双重特性而被作为半导体材料，但是纯硅中电子被共价键束缚，在电学上呈现出绝缘特性，因此实际应用极少。关注半导体设备：扩散设备看北方华创，万业企业成离子注入
二氧化硅行业研究报告：需求多点增长，多优质上市公
2023年3月10日 按照制造方法分类，二氧化硅可分为气相法二氧化 硅和液相法 二氧化硅。根据反应体系 pH 值、反应过程是否凝胶化等工艺特点可进一步区分 为沉淀法二氧化硅及凝胶法二氧化硅。 沉淀法二氧化硅，学名 2018年6月27日 2、氮氧化硅薄膜的制备 目前氮氧化硅薄膜的制备方法主要有：化学气相沉积法（ CVD ）、物理气相沉积法（ PVD ）和高温氮化法。（ 1 ）化学气相沉积法（ CVD ） 化学气相沉积法是指气态物质（可以是单质或化合物气体）在基板上发生化学反应而沉积成膜。一文了解氮氧化硅材料制备方法及应用粉体资讯粉体圈
金属硅百度百科
2、化学用硅生产 原料在化学用硅生产上，原料是实现良好作业的先决条件。用石英的岩石作生产化学金属硅的原料，低灰分的含碳材料作还原剂。电炉法生产化学用硅的原料主要有硅石和碳素原料。碳素原料又以石油焦为主，有优质的无烟煤或木炭，也 2021年10月11日 2工艺升级带动刻蚀机用量增长，技术壁垒极高 制程升级带动刻蚀机使用提升 刻蚀设备并未出现技术路线明显分化 半导体刻蚀行业壁垒极高，技术未显著分化但格局高度集中 3刻蚀设备有望率先完成国产替代 国内设备最成熟领域，国产替代率较高一文看懂半导体刻蚀设备 知乎
国家能源研发中心（重点实验室）工作巡礼（四十九）
2012年9月11日 二是承担的国家“863”项目“粉煤灰提取氧化硅生产高填料文化用纸技术”完成了箱纸板加填活性硅酸钙造纸实验室试验，填料比例达到50%以上。 完成印刷文化用纸加填活性硅酸钙造纸实验室试验，填料比例达到30%以上。2023年5月4日 碳化硅，是一种无机物，化学式为SiC，是用石英砂、石油焦（或煤焦）、木屑（生产绿色碳化硅时需要加食盐）等原料通过电阻炉高温冶炼而成。碳化硅是一种半导体，在自然界中以极其罕见的矿物莫桑石的形式存在。自1893年以来已经被大规模生产为粉末和晶体，用作磨料等。在C、N、B等非氧化物 碳化硅百度百科
【会议通知】2021年全国二氧化硅材料技术创新与高端应用
2021年7月9日 电子级硅微粉的制备与应用；2 高纯、超细、球形硅微粉的制备与应用技术；3 高性能中空玻璃微珠的制备技术与应用；4 纳米二氧化硅在化学机械抛光（ CMP）领域的应用；5 二氧化硅气凝胶制备与应用技术；6 超细硅微粉表面改性技术与装备；72014年6月20日 研究了等离子体增强化学气相沉积工艺条件对氮氧化硅膜的生长厚度及折射率的影响以及氮氧化硅/氮 化硅叠层膜对p型硅片的钝化效果 实验结果表明, NH3 的流量和N2O/SiH4 流量比对氮氧化硅膜的影响较 大, 薄膜折射率能从148变化到21, 厚度 等离子体增强化学气相沉积工艺制备 SiON膜及对硅的钝化
工业硅工艺流程 百度文库
工业硅工艺流程 该项目所用的全油焦高纯工业硅生产技术，是对我国工业硅生产技术在生产领域内的创新，填补了国内空白，有利于我国有机硅行业及多晶硅太阳能电池行业的整体提升。 4）工艺流程 工艺流程简述：该项目采用的工艺技术路线是：首先将合格 2021年2月25日 下面为大家简单介绍一下气相法、沉淀法和水热合成法。 1气相法 气相法多以四氯化硅为原料，采用四氯化硅气体在氢氧气流高温下水解制得烟雾状的SiO2。 激光激活化学气相沉积 (ILCVD)也是气相法中 纳米二氧化硅的制备 知乎
氧化亚硅的生产装置的制作方法
2021年8月31日 5根据权利要求2或3所述的氧化亚硅的生产装置，其特征在于，刮刀(6)呈盘状，刮刀(6)上设有用于接料的凹槽(6a)。6根据权利要求2或3所述的氧化亚硅的生产装置，其特征在于，刮削机构还包括第二支 2023年10月19日 耗材类零部件通常位于高温、腐蚀性等恶劣环境中，在设备正常使用过程中会出现正常损耗，耗材类零部件需定期更换以保障性能和质量，使用周期较短。因此，耗材类零部件的需求既与设备厂设备生产量相关，也与晶圆厂设备装机量、开机率相关性较大。碳化硅材料零部件广泛应用于外延生长、氧化/扩散/退火等设备
钙钛矿设备行业深度报告：光伏0~1的颠覆性技术 新浪看点
2023年4月7日 12 优点 2：原料易获取、工序简单带来成本降低 相比晶硅电池，钙钛矿工序大大缩短，单 GW 产能投资额更低。 于钙钛矿电 池厂本身就相当于组件厂，同时也省去了晶硅电池前端的硅料提纯、硅片切割等环 节，整体生产成本上相较晶硅电池可大幅降低。 根 2023年11月12日 综合来看，国内碳化硅关键设备产业已经逐步发力，大部分设备类型都已有国产替代方案，在碳化硅产业爆发的情况下，未来碳化硅设备市场也将不断增大，预计此轮利好将持续23年，在此期间碳化硅设备需求将持续增长，将为国内设备厂商带来巨大的发展 2025市场达200亿，碳化硅关键设备企业迎历史机遇 知乎
硅的制取及硅片的制备工业硅金属百科
硅的制取及硅片的制备 硅的制取简介 不同形态不同纯度的 硅 制取方式各有不同，具体方法如下： 无定型硅可以通过 镁 还原二氧化硅的方式制得。 实验室里可用镁粉在赤热下还原粉状二氧化硅，用稀酸洗去生成的氧化镁和镁粉，再用氢氟酸洗去未作用的 2023年8月5日 值得注意的是，芯片整个产业链都需要进行量检测，不同步骤中的量检测目的、目标参数都不同，因此所需的设备也有区别。 以上我们介绍了整个硅片制造工序中的主要设备，虽然硅片制造设备仅占半导体设备价值量的2%，但由于硅片是半导体器件的最重要 芯片产业链系列7半导体设备硅片制造设备 知乎
集成电路的工艺平台有哪些？ 知乎
2022年11月30日 一个典型的等离子体氮氧化硅工艺示意图如图42所示，它具有工艺可控性和重现性好、形成的氮氧化硅氮含量高、均匀性好等优点。等离子体氮化工艺的主要设备生产商有应用材料公司（Applied Material）和东电电子（Tokyo Electron）。2023年2月21日 HJT电池生产工艺流程及与其他电池技术工艺流程对比 ① 制绒清洗环节：硅片经过前期的工序加工后，表面可能受到有机杂质、颗粒、金属离子等沾污，在制作电池的步都是对硅片进行清洗。同时为了增加对光的能量吸收以及提升钝化效果，在硅片表面腐蚀出金字塔形貌以作为陷光结构也非常 光伏产业链专题报告3——电池片 知乎
昆明理工《Hydrometallurgy》特邀综述：工业硅提纯！ 知乎
2021年1月20日 因此，如何通过湿法工业有效深度去除工业硅中的固溶类杂质仍极具挑战；2 单一酸浸方式只对硅中特定杂质的去除较为有效，分段酸浸或者混合酸浸是目前主流的工业硅湿法提纯方法。此外，通过在工业硅湿法提纯过程加入氧化剂也可以实现杂质的强化去除。2020年6月16日 半导体制造之设备篇 半导体需要的设备比较繁杂，在晶圆制造中，由于光刻、刻蚀、沉积等流程在芯片生产过程中需要20到50次的反复制作，是芯片前端加工过程的三大核心技术，其设备价值也最高，但 半导体制造之设备篇：国产、进口设备大对比 知乎
技术 高分子环保脱硫剂脱硫机理及工业化应用排放
2021年1月5日 如何实现高效快速吸附二、三两级预热器中SO2并加速氧化成SO3，同时促进生料对SO3 的吸附，最终降低SO2 排放是脱硫技术的关键。 本文介绍了一种新型高分子环保脱硫剂的工作机理和工业化应用，通过脱硫 剂含有的氧化成分促进SO2 向SO3 转化，同时凭借其特有的高分子组分官能团强力吸附SO2 并最终 2020年5月11日 3、一氧化二氮（N2O ）：介质膜工艺气体，目前国内产能即将增长 一氧化二氮是一种无色有甜味气体，在一定条件下能支持燃烧，但在室温下稳定，有轻微麻醉作用，并能致使人发笑，俗称笑气。一氧化 电子特气行业深度报告：电子特气国产化迎历史性机遇
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2022年12月22日 公司拥有亲水性气相二氧化硅和疏水性气相二氧化硅两大系列产品，也可批量生产气相二氧化钛及气相三氧化二铝。 改性气相法纳米二氧化硅 公司设立了中国氟硅行业气相二氧化硅创新孵化基地和省级企业技术中心，和全世界较大的高分子学院—四川大学高分子学院共同成立了功能纳米粉体材料 2022年1月3日 由于纯碱、石英砂等沉淀二氧化硅原材料集中在华东地区，且该地区为轮胎、鞋业、硅橡胶企业的生产聚集地，故我国沉淀二氧化硅生产厂家主要分布在福建、山东、江苏等地区，产能占全国80%以上。气相二氧化硅企业主要分布在华东、中南和华北地区。【行业深度】洞察2022：中国二氧化硅行业竞争格局及市场
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2022年8月19日 氧化炉 4磁控溅射台 磁控溅射是物理气相沉积的一种，一般的溅射法可被用于制备半导体等材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。 在硅晶圆生产过程中，通过二极溅射中一个平行于靶表面的封闭磁场，和靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域 2023年4月18日 为实现 上述生产工艺所能达到的各项指标要求，还需要专业的特种非标核心生产设备，公司在生 产过程中的主要设备及技术均为自主研发。 尤其是用于轮胎、牙膏、涂料等的高档二氧化 硅产品，需要长期的理论和实践经验积累才能实现稳定生产，对企业的研发能力和人才储 备有较高要求。确成股份研究报告：高分散白炭黑龙头企业，打开长期成长空间
多晶硅百度百科
2011年6月3日 多晶硅，是单质硅的一种形态。 熔融的单质硅在过冷条件下凝固时，硅原子以 多晶硅（polycrystalline silicon）有灰色金属光泽，密度232~234g/cm。 熔点1410℃。 沸点2355℃。 溶于的混酸中，不溶于水、硝酸和盐酸。 硬度介于之间，室温下质脆，切割 2020年3月10日 也是种用于大量生产氮化硅粉末的方法。 但如果使用的硅原料纯度低会使得生产出的氮化硅含有杂质硅酸盐和铁。 用二胺分解法合成的氮化硅是无定形态的，需要进一步在14001500°C的氮气下做退火处理才能将之转化为晶态粉末，目前二胺分解法在重要性方面是仅次于渗氮法的商品化生产氮化硅 氮化硅合成方法及加工 知乎
工业硅冶炼原材料及成本构成剖析 知乎
2022年5月31日 从成本构成看，每生产1吨工业硅大约需要消耗273吨硅石，2吨炭质还原剂，01013吨电极。 同时，冶炼过程还需要消耗大约1100013000度电能。 除上述原材料及耗电成本外，还包括一些其他费用，比如维护费用、折旧、人工成本等。 成本构成中，硅